Reactive Sputter Deposition

Diederik Depla · Stijn Mahieu

2008 ജൂൺ · Springer Series in Materials Science പുസ്‌തകം, 109 · Springer Science & Business Media

ഇ-ബുക്ക്

572

പേജുകൾ

റേറ്റിംഗുകളും റിവ്യൂകളും പരിശോധിച്ചുറപ്പിച്ചതല്ല കൂടുതലറിയുക

ഈ ഇ-ബുക്കിനെക്കുറിച്ച്

The most straightforwardmethod to change the surface properties of a ma- rial is to deposit a thin ?lm or coating on it. Hence, it is not surprising that an overwhelming amount of scienti?c and technical papers is published each year on this topic. Sputter deposition is one of the many so-called physical vapour deposition (PVD) techniques. In most cases, sputter deposition uses a magnetically enhanced glow discharge or magnetron discharge to produce the ions which bombard and sputter the cathode material. In the ?rst chapter of this book (Chap. 1), the details of the sputter process are discussed. Essential to sustain the discharge is the electron emission during ion bombardment. Indeed, the emitted electrons are accelerated from the target and can ionize gas atoms. The formed ions bombard again the target completing the s- taining process. A complete chapter is assigned to this process to highlight its importance (Chap. 2). Although the sustaining process can be described quite straightforward, a complete understanding of the magnetron discharge and the in?uence of di?erent parameters on the discharge characteristics is onlypossiblebymodelling(seeChap.3).Withthesethreechapters,thereader should be able to form an idea of the target and plasma processes occurring during a DC magnetron discharge.

രചയിതാവിനെ കുറിച്ച്

Prof. Dr. D. Depla has received his Master Degree in Chemistry in 1991 at Ghent University (Belgium). In 1996 he promoted with a PhD thesis on Solid State Chemistry. After a short period as senior scientist in the Department for Solid State Sciences, he became in 1999 Professor at the Department for Solid State Sciences where his research focussed on the fundamental aspects of reactive magnetron sputtering. He has shown the importance of ion implantation in the description of the reactive magnetron sputter process. In this way, his continuous research in this area resulted in several publications.

Dr. S. Mahieu received his Master Degree in Physics in 2002 and promoted in 2006 with the PhD thesis entitled "Biaxial alignment in sputter deposited thin films" in the department of Solid State Sciences, Ghent University (Belgium). During his PhD, he focussed on the modelling of thin film growth, plasma characterization and the simulation of transport of sputtered particles, resulting in the elaboration of a new structure zone model as published in an invited review in Thin Solid Films. As Postdoctoral Fellow of the Research Foundation - Flanders (FWO), his current research is focussed on characterizing and modelling the relation between thin film growth and the energy flux towards the substrate during magnetron sputtering.

ഈ ഇ-ബുക്ക് റേറ്റ് ചെയ്യുക

നിങ്ങളുടെ അഭിപ്രായം ഞങ്ങളെ അറിയിക്കുക.

വായനാ വിവരങ്ങൾ

സ്‌മാർട്ട്ഫോണുകളും ടാബ്‌ലെറ്റുകളും

Android, iPad/iPhone എന്നിവയ്ക്കായി Google Play ബുക്‌സ് ആപ്പ് ഇൻസ്‌റ്റാൾ ചെയ്യുക. ഇത് നിങ്ങളുടെ അക്കൗണ്ടുമായി സ്വയമേവ സമന്വയിപ്പിക്കപ്പെടുകയും, എവിടെ ആയിരുന്നാലും ഓൺലൈനിൽ അല്ലെങ്കിൽ ഓഫ്‌ലൈനിൽ വായിക്കാൻ നിങ്ങളെ അനുവദിക്കുകയും ചെയ്യുന്നു.

ലാപ്ടോപ്പുകളും കമ്പ്യൂട്ടറുകളും

Google Play-യിൽ നിന്ന് വാങ്ങിയിട്ടുള്ള ഓഡിയോ ബുക്കുകൾ കമ്പ്യൂട്ടറിന്‍റെ വെബ് ബ്രൗസർ ഉപയോഗിച്ചുകൊണ്ട് വായിക്കാവുന്നതാണ്.

ഇ-റീഡറുകളും മറ്റ് ഉപകരണങ്ങളും

Kobo ഇ-റീഡറുകൾ പോലുള്ള ഇ-ഇങ്ക് ഉപകരണങ്ങളിൽ വായിക്കാൻ ഒരു ഫയൽ ഡൗൺലോഡ് ചെയ്ത് അത് നിങ്ങളുടെ ഉപകരണത്തിലേക്ക് കൈമാറേണ്ടതുണ്ട്. പിന്തുണയുള്ള ഇ-റീഡറുകളിലേക്ക് ഫയലുകൾ കൈമാറാൻ, സഹായ കേന്ദ്രത്തിലുള്ള വിശദമായ നിർദ്ദേശങ്ങൾ ഫോളോ ചെയ്യുക.

നിയമവിരുദ്ധമായ ഉള്ളടക്കം റിപ്പോർട്ട് ചെയ്യുക